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代理Otsuka大塚電子OPTM測厚儀

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代理Otsuka大塚電子FE-5000嵌入式膜厚儀

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代理Otsuka大塚電子橢圓偏振光測量儀FE-300

代理Otsuka大塚電子橢圓偏振光測量儀FE-300 多功能橢偏儀橢偏儀系統橢圓偏振光測量儀
代理日本Otsuka大塚電子Si晶圓測試儀SF-3

代理日本Otsuka大塚電子Si晶圓測試儀SF-3 SiC測試儀 SiC膜厚儀晶圓檢測設備薄化晶圓
代理 Otsuka大塚多通道光纖光譜儀MCPD-6800

代理 Otsuka大塚多通道光纖光譜儀MCPD-6800 MCPD-9800 涂層測厚在線測色儀膜厚在線測試陣列光譜儀在線分光測色儀光譜分析系統
代理 Otsuka大塚多通道光纖光譜儀MCPD-9800

代理 Otsuka大塚多通道光纖光譜儀MCPD-9800 MCPD6800 在線測厚光纖光譜儀熒光光譜測試光通量測試單色儀
江蘇地區代理Otsuka大塚VR測試儀RE-200

Otsuka大塚VR測試儀RE-200 偏光片RTH AR測試儀大塚電子RETS
代理AR測試儀Otsuka大塚RETS-100nx

代理AR測試儀Otsuka大塚RETS-100nx VR測試儀 Re測試相位延遲測試儀大塚電子RETS
Otsuka大塚電子線掃描膜厚度計離線型

Otsuka大塚電子線掃描膜厚度計離線型該設備可離線輕松進行表面厚度不均勻性檢測，用于薄膜等的研發和質量控制的抽查。整個表面可以快速、高精度地測量。
Otsuka大塚電子在線膜厚測量厚度計

Otsuka大塚電子在線膜厚測量厚度計塔瑪薩崎電子代理銷售該裝置可以測量薄膜的整個寬度和總長度，用于在線薄膜生產現場。通過將新開發的高精度薄膜厚度計算技術與專有光譜干涉方法相結合，可以在每 0.01 秒的測量間隔內測量 500mm 寬度（使用一臺）的薄膜厚度。
代理大塚電子單元間隙檢查裝置 RETS series

江蘇代理Otsuka大塚單元間隙檢查裝置 RETS series 支持從反射型和透射型液晶封裝單元到帶濾色器的空單元的各種應用
Otsuka大塚電子 RETS延遲測量設備

Otsuka大塚電子 RETS延遲測量設備它是一種延遲測量設備，適用于所有薄膜，包括 OLED 偏振板、層壓緩速膜和帶 IPS 液晶緩速膜的偏振板。實現超高Re.60000nm的高速、高精度測量。薄膜的層壓狀態可以通過“無剝離、無損”進行測量。此外，它還配備了簡單的軟件和校正功能，通過重新放置樣品來糾正偏差，從而輕松實現高精度測量。
代理Otsuka大塚電子光纖光譜儀

塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司代理Otsuka大塚電子光纖光譜儀MCPD-9800/MCPD-6800
江蘇代理大塚電子 OPTM-A1膜厚計

塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司江蘇代理大塚電子 OPTM-A1膜厚計 OPTM（Optim）是一種利用顯微分光在微區域進行**反射率測量，可實現高精度薄膜厚度和光學常數分析的裝置。涂層膜的厚度和多層膜（如各種薄膜、晶圓和光學材料）可以無損或非接觸式測量。測量時間可以高速測量 1 秒/點。此外，它配備了一個軟件，即使是初學者可以很容易地分析光學常數。
OTSUKA大塚電子高靈敏度光譜輻射計HS-1000

塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司代理銷售OTSUKA大塚電子高靈敏度光譜輻射計HS-1000
塔瑪薩崎代理Otsuka大塚多通道光譜儀 MCPD-6800

塔瑪薩崎代理Otsuka大塚多通道光譜儀 MCPD-6800 MCPD-6800 是光譜測量和分析的基本系統。即時測量光譜，自由組裝測量光學系統和多種選項，可根據各種目的進行系統升級。測量波長范圍有四種類型可供選擇。
塔瑪薩崎電子代理Otsuka大塚多通道光譜儀 MCPD-9800

多功能多通道光譜探測器，支持從紫外到近紅外區域。光譜測量可在 5 毫秒內進行。標準儀器的光纖支持各種測量系統，無需識別樣品類型。除了顯微分光、光源發射、透射和反射測量外，它還與軟件相結合，支持物體顏色評估和薄膜厚度測量。
江蘇代理Otsuka大塚電子多通道光譜儀RETS-100nx

它是一種延遲測量設備，適用于所有薄膜，包括 OLED 偏振板、層壓緩速膜和帶 IPS 液晶緩速膜的偏振板。實現超高Re.60000nm的高速、高精度測量。薄膜的層壓狀態可以通過“無剝離、無損”進行測量。此外，它還配備了簡單的軟件和校正功能，通過重新放置樣品來糾正偏差，從而輕松實現高精度測量。
代理Otsuka大塚靜態光散射光度計 SLS-6500HL

特點使用靜態光散射法測量優良分子量、慣性半徑和第二維系數是可能的。可以對 Zimm 繪圖、伯利圖、Zimm 平方根圖、單濃度圖和 Debye 圖進行各種分析。系統將詢問您如何安排您的會議。可選的桿單元支架可實現光纖材料（散裝）的優良散射強度測量。
代理Otsuka大塚動態光散射光度計 DLS-6500series

使用動態光散射方法測量顆粒大小和顆粒大小分布（顆粒大小和顆粒大小分布）是可能的。您可以選擇 He-Ne 激光、固態激光和雙激光規格。相關計高達 4096ch，可實現多模式分析，如聚合物濃縮溶液。與可選的凝膠旋轉單元結合使用時，可以分析凝膠狀態。
蘇州代理Otsuka大塚動態光散射光度計 DLS-8000series

特點使用動態光散射法測量顆粒大小和顆粒大小分布（顆粒大小和顆粒大小分布），并使用靜態光散射方法測量優良分子量、慣性半徑和第二維真實系數。您可以選擇 He-Ne 激光、固態激光和雙激光規格。采用浸入式細胞光學系統，可以高精度地測量微弱散射的納米級粒子。相關計高達 4096ch，可實現多模式分析，如聚合物濃縮溶液。與可選的凝膠旋轉單元結合使用時，可以分析凝膠狀態。
代理Otsuka大塚小角激光散射儀PP-1000

散射角度為0.33~45°的測量*短為10msec※可以測量評估亞微米至數百微米的結構使用專用電池測量溶液樣品在軟式 Hv 散射和 Vv 散射測量中輕松切換桌面類型，可安裝在實驗室中 ※不使用HDR功能時
蘇州代理Otsuka大塚納米SAQLA

一臺儀器可輕松連續測量 5 個樣本，無需自動采樣器即可實現多個樣本的連續測量，也可以通過改變每個樣本的條件進行測量。支持從稀釋到厚系統標準測量時間 1 分鐘的高速測量自動調整從厚系統到稀薄樣品的*佳測量位置，實現約 1 分鐘的高速測量簡單易懂的測量功能（只需單擊一下即可開始測量），無需復雜的操作內置非浸沒式細胞塊，無分包的無孔，每個細胞都是獨立的，因此無需擔心不成問題。配備溫度梯度功能，可輕松設置溫度
Otsuka大塚多樣品納米顆粒直徑測量系SAQLA

■納米SAQLA的特點一臺儀器可輕松連續測量 5 個樣本，無需自動采樣器即可實現多個樣本的連續測量，也可以通過改變每個樣本的條件進行測量。支持從稀釋到厚系統標準測量時間 1 分鐘的高速測量自動調整從厚系統到稀薄樣品的*佳測量位置，實現約 1 分鐘的高速測量簡單易懂的測量功能（只需單擊一下即可開始測量），無需復雜的操作內置非浸沒式細胞塊，無分包的無孔，每個細胞都是獨立的，因此無需擔心不成問題。配備溫度梯度功能，可輕松設置溫度
代理Otsuka大塚顆粒尺寸分子量測量 ELSZ-2000S

特點 *新的高靈敏度 APD 可提高靈敏度并縮短測量時間通過自動溫度梯度測量進行變性/相變溫度分析可在 0 至 90°C 的寬溫度范圍內進行測量增加了廣泛的分子量測量和分析功能支持懸浮高濃度樣品的顆粒尺寸測量
蘇州代理Otsuka大塚澤塔電位測量系統 ELSZ-2000Z

特點 *新的高靈敏度 APD 可提高靈敏度并縮短測量時間通過自動溫度梯度測量進行變性/相變溫度分析可在 0 至 90°C 的寬溫度范圍內進行測量支持懸浮高濃度樣品的Zeta電位測量通過測量和繪圖分析，提供高精度的 Zeta 電位測量結果，用于測量單元中的電滲透流支持高鹽濃度溶液的Zeta電位測量支持小面積樣品的平板Zeta電位測量
蘇州塔瑪薩崎代理Otsuka大塚澤塔電位ELSZ-2000ZS

特點 *新的高靈敏度 APD 可提高靈敏度并縮短測量時間通過自動溫度梯度測量進行變性/相變溫度分析可在 0 至 90°C 的寬溫度范圍內進行測量增加了廣泛的分子量測量和分析功能支持懸浮高濃度樣品的顆粒直徑和Zeta電位測量通過測量和繪圖分析，提供高精度的 Zeta 電位測量結果，用于測量單元中的電滲透流支持高鹽濃度溶液的Zeta電位測量支持小面積樣品的平板Zeta電位測量
代理Otsuka大塚澤塔電位ELSZneo

從稀釋到濃縮的溶液（~40%）*1可在廣泛的濃度范圍內測量顆粒大小和 Zeta 電位多角度測量可實現高分離粒徑分布的測量可在高鹽濃度下測量平板樣品的Zeta電位使用靜態光散射法測量顆粒濃度動態光散射法可實現微流變測量通過多點測量凝膠樣品，可以評估凝膠的網狀結構和異質性標準流單元可連續測量顆粒大小和 Zeta 電位可在 0 至 90°C 的寬溫度范圍內進行測量溫度梯度功能允許蛋白質的變性和相變溫度分析通過測量和繪圖分析，提供高精度的 Zeta 電位測量結果，用于測量單元中的電滲透流可安裝熒光切割過濾器（可選）
塔瑪薩崎Otsuka大塚分析儀器

使用單個設備分析不同的成分，如陽離子和陰離子。微量樣品可實現短時間、高分辨率的分析。
塔瑪薩崎Otsuka大塚光譜輻射計

評估光源在紫外區域的輻射強度。 ? 通過光譜輻射測量高精度測量亮度，支持紫外、可見、紅外和廣泛的測量波長范圍，可實現光生物學**評估這是一個有限的設備，可以測量紫外線的亮度。
塔瑪薩崎光譜儀

評估紫外 LED 的輻射束。 ? 高性能紫外 LED 的輸出評估與溫度控制單元結合使用時，溫度評估支持紫外線 LED 的光學特性評估，預計這些特性是**、凈化和樹脂固化。
塔瑪薩崎Otsuka大塚測量儀器

基于與 NIMS 共同開發的單粒子診斷方法進行測量。* ? 與國家材料科學研究所研究員高崎正彥和武田高富史合作
塔瑪薩崎Otsuka大塚光譜儀

多功能多通道光譜探測器，支持從紫外到近紅外區域。光譜測量可在 5 毫秒內進行。標準儀器的光纖支持各種測量系統，無需識別樣品類型。除了顯微分光、光源發射、透射和反射測量外，它還與軟件相結合，支持物體顏色評估和薄膜厚度測量。
塔瑪薩崎Otsuka大塚厚度計

在晶圓等研磨和拋光過程中，我們以超高速和高精度測量晶圓和樹脂的厚度。
塔瑪薩崎Otsuka大塚光譜儀

除了能夠進行高精度薄膜分析的光譜橢圓測量外，我們還通過安裝測量角度的自動可變機制，支持各種薄膜。除了傳統的旋轉分析儀方法外，還通過設置緩速板的自動解吸機制，提高了測量精度。
塔瑪薩崎Otsuka大塚測量儀器

我們的 MCPD 系列內聯薄膜評估系統采用光學類型，可在非接觸式和無損條件下檢測薄膜厚度、濃度和顏色。可測量薄膜厚度范圍為 65nm 至 92μm，從薄膜到厚膜。（折射率為1.5時）測量原理為分光干涉方式，在實現高測量再現性的同時，還支持多層厚度測量。由于采用專有算法可實現高速實時監控，因此我們提出了*適合在線膠片監視器的系統。
塔瑪薩崎Otsuka大塚膜厚儀

我們的 MCPD 系列采用柔性光纖，可集成到從原位到內聯的各種位置和應用。由于測量原理采用光譜干涉系統，因此在實現高測量可重復性的同時，還支持多層厚度測量。采用專有算法，可實現高速實時監控。
塔瑪薩崎Otsuka大塚

OPTM（Optim）是一種利用顯微分光在微區域進行**反射率測量，可實現高精度薄膜厚度和光學常數分析的裝置。涂層膜的厚度和多層膜（如各種薄膜、晶圓和光學材料）可以無損或非接觸式測量。測量時間可以高速測量 1 秒/點。此外，它配備了一個軟件，即使是初學者可以很容易地分析光學常數。
塔瑪薩崎Otsuka大塚光度計

固體激光器和高靈敏度探測器（冷卻光電倍增管）可用于測量 0.5nm 至 5000nm 顆粒的顆粒大小分布（顆粒大小和顆粒大小分布）。
塔瑪薩崎Otsuka大塚光度計

使用靜態光散射法測量**分子量、慣性半徑和**維系數是可能的。
塔瑪薩崎Otsuka大塚光度計

使用動態光散射法測量顆粒大小和顆粒大小分布（顆粒大小和顆粒大小分布），并使用靜態光散射方法測量**分子量、慣性半徑和**維真實系數。
塔瑪薩崎Otsuka大塚分析儀器

特點 ■納米SAQLA的特點一臺儀器可輕松連續測量 5 個樣本，無需自動采樣器即可實現多個樣本的連續測量，也可以通過改變每個樣本的條件進行測量。支持從稀釋到厚系統標準測量時間 1 分鐘的高速測量自動調整從厚系統到稀薄樣品的*佳測量位置，實現約 1 分鐘的高速測量簡單易懂的測量功能（只需單擊一下即可開始測量），無需復雜的操作內置非浸沒式細胞塊，無分包的無孔，每個細胞都是獨立的，因此無需擔心不成問題。配備溫度梯度功能，可輕松設置溫度 ■AS50的特點連續測量多達 50 個樣本即使在測量過程中也能添加樣品樣品集簡單方便（*多可批量更換 50 個樣品）有機溶劑兼容（玻璃一次性電池）樣品容量 *小 0.4ml
塔瑪薩崎Otsuka大塚電位儀

該裝置可用于用稀釋溶液到濃縮溶液測量Zeta電位。測量電滲透流，使用*小容量為 130μL 的一次性電池進行測量，可實現高精度 Zeta 電位測量。此外，在0~90°C的寬溫度范圍內，可以進行自動溫度梯度測量的改性和相變溫度分析。
塔瑪薩崎Otsuka大塚澤塔電位儀

除了使用傳統稀釋溶液和濃縮溶液測量Zeta電位和顆粒直徑外，該裝置還能夠測量分子量。對應于顆粒大小測量范圍（0.6nm 至 10μm）和濃度范圍（0.00001% 至 40%）。測量電滲透流，使用*小容量為 130μL 的一次性電池進行測量，可實現高精度 Zeta 電位測量。此外，在0~90°C的寬溫度范圍內，可以進行自動溫度梯度測量的改性和相變溫度分析。
塔瑪薩崎Otsuka大塚澤塔電位儀

[通過光散射評估物理性能在 ELSZneo 中進入一個新的階段] 除了在 ELSZseries 的**型號上用稀釋溶液到濃縮溶液測量 Zeta 電位和顆粒直徑外，該裝置還允許分子量測量。作為一項新功能，我們采用了多角度測量，以提高顆粒大小分布的分離能力。此外，還可以進行顆粒濃度測量、微流變測量和凝膠網絡結構分析。新開發的 Zeta 電位平板電池單元采用新開發的高鹽濃度涂層，可在高鹽濃度環境中（如鹽水）進行測量。我們還推出了超微量電池單元，可在 3μL 下測量顆粒大小，為生命科學領域擴展了可能性。
tokisangyo東機產業BII型粘度計

自1953年銷售以來，無論是在科研領域、生產現場，還是在品質管理等各類需要測定粘度的場所，B-II型粘度計都是客戶的愛用機型，也是粘度計的代表機型。特點 ◆ 擁有從低粘度至高粘度的寬廣測定量程 ◆ 接觸液體部分的材料是SUS304/303型不銹鋼 ◆ 適合測定非牛頓型液體的流動特征 ◆ 輝煌的銷售業績蓄積了豐富的專業知識和經驗
OTSUKA大塚電子 zeta 電位儀

除了常規的 zeta 電位和粒度測量外，它是一種可以測量分子量的設備，可通過稀溶液至濃溶液進行測量。支持粒度測量范圍（0.6 nm 至 10 μm）和濃度范圍（0.00001% 至 40%）。可以使用*小容量為 130 μL 或更大的一次性樣品池進行測量，通過實際測量電滲流來實現高精度的 zeta 電位測量。此外，通過在0～90°C的寬溫度范圍內進行自動溫度梯度測量，可以進行變性/相變溫度分析。
OPTM-A3_OPTM顯微分光膜厚儀_Otsuka大塚

頭部集成了薄膜厚度測量所需功能通過顯微光譜法測量高精度**反射率（多層膜厚度，光學常數） 1點1秒高速測量顯微分光下廣范圍的光學系統（紫外至近紅外）區域傳感器的**機制易于分析向導，初學者也能夠進行光學常數分析獨立測量頭對應各種inline客制化需求支持各種自定義 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Otsuka大塚 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Ots
OPTM顯微分光膜厚儀_Otsuka大塚_OPTM-A2

頭部集成了薄膜厚度測量所需功能通過顯微光譜法測量高精度**反射率（多層膜厚度，光學常數） 1點1秒高速測量顯微分光下廣范圍的光學系統（紫外至近紅外）區域傳感器的**機制 OPTM顯微分光膜厚儀 OPTM顯微分光膜厚儀_Otsuka大塚_OPTM-A2OPTM顯微分光膜厚儀_Otsuka大塚_OPTM-A2
OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Otsuka大塚

頭部集成了薄膜厚度測量所需功能通過顯微光譜法測量高精度**反射率（多層膜厚度，光學常數） 1點1秒高速測量顯微分光下廣范圍的光學系統（紫外至近紅外）區域傳感器的**機制易于分析向導，初學者也能夠進行光學常數分析獨立測量頭對應各種inline客制化需求支持各種自定義 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Otsuka大塚 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Otsuka大塚 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Otsuka大塚
ZETA電位_Otsuka大塚分子粒徑量測系統ELSZ-2000

ZETA電位_Otsuka大塚分子粒徑量測系統ELSZ-2000 ELSZ-2000 ELSZ-2000ZETA電位_Otsuka大塚分子粒徑量測系統ELSZ-2000 此設備可測量濃度低的溶液～濃度高的溶液的ZETA電位?粒徑及分子量。粒徑測量范圍（0.6nm～10μm），濃度范圍（0.00001%～40%）。實測電氣滲透流，高精度的ZETA電位測量，*小容量是130μL～的一次性cell。另，在0～90℃的大的溫度范圍內，測量自動溫度的梯度空間，分析変性?相轉移溫度
ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000S分子粒徑量測系統

ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000S分子粒徑量測系統ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000S分子粒徑量測系統ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000S分子粒徑量測系統此設備可測量濃度低的溶液～濃度高的溶液的ZETA電位?粒徑及分子量。粒徑測量范圍（0.6nm～10μm），濃度范圍（0.00001%～40%）。實測電氣滲透流，高精度的ZETA電位測量，*小容量是130μL～的一次性cell
ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000Z分子粒徑量測系統

ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000Z分子粒徑量測系統ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000Z分子粒徑量測系統ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000Z分子粒徑量測系統此設備可測量濃度低的溶液～濃度高的溶液的ZETA電位?粒徑及分子量。粒徑測量范圍（0.6nm～10μm），濃度范圍（0.00001%～40%）。實測電氣滲透流，高精度的ZETA電位測量，*小容量是130μL～的一次性cell
ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000分子粒徑量測系統

ZETA電位_Otsuka大塚分子粒徑量測系統ELSZ-2000 ELSZ-2000 ELSZ-2000ZETA電位_Otsuka大塚分子粒徑量測系統ELSZ-2000 此設備可測量濃度低的溶液～濃度高的溶液的ZETA電位?粒徑及分子量。粒徑測量范圍（0.6nm～10μm），濃度范圍（0.00001%～40%）。實測電氣滲透流，高精度的ZETA電位測量，*小容量是130μL～的一次性cell
Otsuka大塚|大冢高靈敏度示差折光儀DRM-3000

Otsuka大塚|大冢高靈敏度示差折光儀DRM-3000Otsuka大塚|大冢高靈敏度示差折光儀DRM-3000Otsuka大塚|大冢高靈敏度示差折光儀DRM-3000
Otsuka大塚內置膜厚監測儀

Otsuka大塚內置膜厚監測儀Otsuka大塚內置膜厚監測儀Otsuka大塚內置膜厚監測儀
Otsuka大塚膜厚計FE-300薄膜類型

Otsuka大塚膜厚計FE-300薄膜類型Otsuka大塚膜厚計FE-300薄膜類型Otsuka大塚膜厚計FE-300薄膜類型
Otsuka大塚膜厚計FE-300標準型

Otsuka大塚膜厚計FE-300標準型Otsuka大塚膜厚計FE-300標準型Otsuka大塚膜厚計FE-300標準型
Otsuka大塚膜厚計FE-300

Otsuka大塚膜厚計FE-300Otsuka大塚膜厚計FE-300Otsuka大塚膜厚計FE-300
OPTM顯微分光膜厚儀OPTM-A3Otsuka大塚

頭部集成了薄膜厚度測量所需功能通過顯微光譜法測量高精度**反射率（多層OPTM顯微分光膜厚儀OPTM-A3Otsuka大塚膜厚度，光學常數） 1點1秒高速測量顯微分光下廣范圍的光學系統（紫外至近紅外）區域傳感器的**機制易于分析向導，初學者也能夠進行光學常數分析獨立測量頭對應各種inline客制化需求支持各種自定義 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Otsuka大塚 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Ots

蘇公網安備 32050502000409號