亚洲女同一区二区,成人性欧美丨区二区三区,欧美久久一二三四区

搜索

熱門搜索：

代理日本品牌：OTSUKA大塚電子（薄膜測厚儀、相位差膜設備等）、USHIO牛尾點光源、CCS檢查光源、Aitec艾泰克、REVOX萊寶克斯、ONOSOKKI小野測器、YAMATO雅馬拓、KOSAKA小坂臺階儀、SEN特殊光源、TSUBOSAKA壺坂電機、NEWKON新光、TOKISANGYO東機產業、tokyokeiso東京計裝、leimac雷馬克、MIKASA米卡薩勻膠機、COSMO科斯莫、SAKURAI櫻井無塵紙、TOE東京光電子、EYE巖崎UV燈管、SANKO山高、HOYA豪雅光源、日本IMV愛睦威地震儀、HOKUYO北陽電機、SAKAGUCHI坂口電熱、ThreeBond三鍵膠水等.

產品中心

所在位置: 首頁> 產品目錄> DNK科研> 光刻機曝光機>

產品詳情

查看大圖

產品名稱：日本DNK科研曝光機MX-1205光刻機
產品型號： MX-1205
產品廠商：DNK 科研
產品價格：0
折扣價格：0
產品文檔：

你添加了1件商品查看購物車

簡單介紹：

產品信息實驗?研究用曝光裝置簡練設計的手動式整面單次曝光裝置。主要特長對應玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產。可選擇接觸曝光(軟接觸、硬接觸)和近接曝光。對應*大尺寸為500mm×500mm的基板。根據用途和基板尺寸,配置有*佳組合的光學系統。其中包括:超高壓水銀燈(500W?1kW?2kW?3.5kW)、各種光學鏡、特殊鏡頭、聚光鏡等

詳情介紹：

光刻機介紹

曝光裝置 MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″

光源超高壓水銀燈：500W or 1kW

曝光裝置 MA-1400 基板追大尺寸400 x 400mm

光源超高壓水銀燈：2kW or 3.5kW

LED,LN曝光裝置MA-4000 圓晶尺寸?2～4″或者?4～6″

光源超高壓汞燈：500W 或 1kW

?200mm/?150 mm 對應曝光裝置MA-4301M 材料SI 玻璃， 對齊精度自動對齊：+/- 1 μm（
峰值搜索）

?300mm對應曝光裝置MA-5301ML 光源超高壓汞燈：3.5kW ?200mm規格也可對應

マスクレス露光裝置MX-1201 曝光掃描速度43.94mm/s 有效曝光區域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
マスクレス露光裝置MX-1201E 曝光掃描速度22.5mm/s 有效曝光區域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135

マスクレス露光裝置MX-1205 曝光掃描速度9/4.5mm/s 有效曝光區域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50

主要規格

MA-1200、MA-1400

	MA-1200	MA-1400
基板尺寸	追大 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″	追大 400 x 400mm
光源	超高壓水銀燈：500W or 1kW	超高壓水銀燈：2kW or 3.5kW
外觀尺寸及重量	本體尺寸	W1240 x D1100 x H1725 mm	W1440 x D1590 x H1882 mm
本體重量	400kg	400kg(包含無塵機房)
光源重量	－	250kg
選購項	無塵機房、背面對位、硬接觸(真空密著式)、自動對位、對應破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。

MA-1200 MA-1400

基板尺寸追大 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″ 追大 400 x 400mm

光源超高壓水銀燈：500W or 1kW 超高壓水銀燈：2kW or 3.5kW

外觀尺寸及重量本體尺寸 W1240 x D1100 x H1725 mm W1440 x D1590 x H1882 mm

本體重量 400kg 400kg(包含無塵機房)

光源重量－ 250kg

選購項無塵機房、背面對位、硬接觸(真空密著式)、自動對位、對應破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。

※基板尺寸和水銀燈瓦數及特殊規格可商洽

產品留言

標題

聯系人

聯系電話

內容

驗證碼

點擊換一張

注：1.可以使用快捷鍵Alt+S或Ctrl+Enter發送信息!
2.如有必要,請您留下您的詳細聯系方式!

蘇公網安備 32050502000409號

產品名稱：日本DNK科研曝光機MX-1205光刻機

主要規格

MA-1200、MA-1400