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產品詳情

  • 產品名稱：SAMCO液體源CVD設備 PD-200STL

  • 產品型號：
  • 產品廠商：SAMCO薩姆肯
  • 產品價格：0
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簡單介紹：
PD-200STL 是一種高速等離子CVD設備，用于通過液體源形成氧化硅 （SiO2） 膜和氮化硅 （SiN） 膜。
詳情介紹：

概述

PD-200STL 是一種高速等離子CVD設備，用于通過液體源形成氧化硅 （SiO2） 膜和氮化硅 （SiN） 膜。 陰極側護套電場產生的離子能量允許在低溫下形成低應力厚膜。 該裝置具有負載鎖室，可實現出色的可重復性沉積。

特點

  • 良好的薄膜厚度均勻性和穩定性
  • 高速沉積和應力控制
  • 低溫沉積（80°C~）
  • 階梯覆蓋性優異的成膜
  • 控制折射率（使用 Ge、P 和 B）

應用示例

  • SAW 器件的溫度補償膜、鈍化膜
  • MEMS掩膜和氧化膜犧牲層
  • 三維封裝中TSV（Si貫通通孔）側壁的絕緣膜

  • 光波導芯層、包層形成

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